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UV光催化氧化设备是怎么利用紫外线分解废气的

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UV光催化氧化设备是怎么利用紫外线分解废气的

发布日期:2017-06-28 作者:青岛德尔环保 点击:

UV光催化氧化设备

UV光催化氧化设备工作原理:

本产品利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而生成臭氧;

UV+O2O-+O(活性氧)O+O2O3(臭氧),臭氧与呈游离状态污染物质原子聚合,生成新的、无害或低害物质,如CO2、H2O等。同时在污染体系中投加一定量的光敏材料,结合一定量的光辐射,使光敏半导体在光的照射下激发产生电子-对,吸附在半导体上的溶解氧、水分子等与电子-空穴作用,产生·HO等氧化性极强的自由基,再通过与污染物之间的羟基加和、取代、电子转移等式污染物全部或接近全部氧化。

作用过程:

刺激性气味气体利用排风设备输入到UV光解净化设备后,净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同裂解、氧化反应,使恶臭气体物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通过排风管道排出室外。

产品特点:

本产品利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体物质分子键,裂解刺激性臭味气体物质如:氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC类,苯、甲苯、二甲苯的分子键,在半导体催化剂的作用下,使呈游离状态的污染物原子与臭氧氧化聚合成小分子无害或低害物质,如CO2、H2O等。利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键,破坏细菌的核酸(DNA),再通过臭氧,在半导体催化剂的作用下,进行催化氧化反应,达到脱臭及杀灭细菌的目的。

UV光催化氧化设备产品性能:

高效除恶臭:能高效去除挥发性有机物(VOC)、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物,以及各种恶臭味,脱臭效率高,脱臭效果大大超过国家1993年颁布的恶臭污染物排放标准(GB14554-93)。

适应性强:可适应高浓度,大气量,不同恶臭气体物质的脱臭净化处理,可每天24小时连续工作,运行稳定可靠。

运行成本低:本设备无任何机械动作,无噪音,无需专人管理和日常维护,只需作定期检查,本设备能耗低,设备风阻低,可节约大量排风动力能耗。

无需温湿度处理:恶臭气体无需进行特殊的预处理,如加温、加湿等,设备工作环境温度在摄氏-30°-95°之间,湿度在40%98%之间均可正常工作。

设备占地面积小,自重轻:适合于布置紧凑、场地狭小等特殊条件。

优质材料制造:防火、防腐蚀性能高,性能稳定,使用寿命长。

环保高科技产品:采用先进技术理念,通过专家及我公司工程技术人员长期反复的试验,开发研制出的,可分解恶臭气体中有毒有害物质,并能达到完美的脱臭效果,经分解后的恶臭气体,可达到无害化排放,不产生二次污染,同时达到高效消毒杀菌的作用。


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